首页> 外文OA文献 >Colossal electroresistance in metal/ferroelectric/semiconductor tunnel diodes for resistive switching memories
【2h】

Colossal electroresistance in metal/ferroelectric/semiconductor tunnel diodes for resistive switching memories

机译:金属/铁电/半导体隧道中的巨大电阻   用于电阻开关存储器的二极管

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

We propose a tunneling heterostructure by replacing one of the metalelectrodes in a metal/ferroelectric/metal ferroelectric tunnel junction with aheavily doped semiconductor. In this metal/ferroelectric/semiconductor tunneldiode, both the height and the width of the tunneling barrier can beelectrically modulated due to the ferroelectric field effect, leading to acolossal tunneling electroresistance. This idea is implemented inPt/BaTiO3/Nb:SrTiO3 heterostructures, in which an ON/OFF conductance ratioabove 10$^4$ can be readily achieved at room temperature. The colossaltunneling electroresistance, reliable switching reproducibility and long dataretention observed in these ferroelectric tunnel diodes suggest their greatpotential in non-destructive readout nonvolatile memories.
机译:我们提出了一种隧道异质结构,方法是用重掺杂半导体代替金属/铁电/金属铁电隧道结中的金属电极之一。在该金属/铁电/半导体隧道二极管中,由于铁电场效应,可以电调制隧穿势垒的高度和宽度,从而导致巨大的隧穿电阻。这个想法在Pt / BaTiO3 / Nb:SrTiO3异质结构中得以实现,其中在室温下可以很容易地实现高于10 $ ^ 4 $的开/关电导率。在这些铁电隧道二极管中观察到的巨大隧道电阻,可靠的开关重现性和较长的数据保留时间表明它们在无损读出非易失性存储器中具有巨大的潜力。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号